【深度研究】谁在中国大陆研究各类新型存储技术:ReRAM, FeRAM, MRAM, PCM, 3D-NOR等等?
2026-05-20 09:50:24
最近研究中国近20年在各类新型存储技术NVM (Non Volatile Memory)的基础研究、技术开发、市场化的过程中,发现将这些原来很分散的内容总结以后,不仅对于深入了解业内知名的测试新型存储产品和技术的TestMesh如何有效帮助这些研究机构大大提高测试效率方面,同时对于从事该领域的人可能也有一定的帮助和借鉴,尤其是相关的高校、科研院所以及企业。想直接查看中国NVM产业“谁是谁,谁干了什么?的可以直接滑过下面关于“比传统仪器测试NVM提高验证效率9000倍的”TestMesh的一些精简介绍,直接跳到本文中间开始的"组织总表(大陆+港澳,约70+条目)"查看我们统计的国内高校、科研院所、企业发布的关于关于NVM的研究和论文情况

中国新型非易失性存储 NVM 生态地图

本文以中国(大陆+香港+澳门)为范围,围绕 FeRAM/FRAM、FeFET(HfO₂铁电体系为主)、MRAM(STT/SOT/eMRAM)、ReRAM/RRAM(含忆阻器与交叉阵列/存内计算)、PCM(相变存储)、PMRAM(以垂直各向异性/自旋轨道力矩路线为主的MRAM变体)、以及NOR Flash改进(含3D‑NOR与嵌入式Flash/eFlash),梳理了可公开核实的组织清单(约70+条目),供大家参考。

下面首先介绍一下我们前提到的TestMesh是个啥工具

  1. TestMesh:其“极高速算法循环(algorithmic cycling)+硬件时序/判决(1‑bit ADC、硬件sequencer)+微秒级配置/纳秒级采样”的架构,直接对应新型NVM在“可靠性/耐久/漂移/阵列状态可视化/盲测循环/交叉阵列拓扑与扰动”方面的研发痛点。
  2. 中国本土在 RRAM/eRRAM(含存算一体) 与 NOR(含3D‑NOR) 方向出现了“科研突破→IP/芯片→量产/试产”的明显链条:例如中科院微电子所公开披露了 3D NOR阵列验证 与 28nm嵌入式RRAM IP量产落地 等里程碑,意味着“工程化测试平台”会逐步成为刚需。
  3. 近期(2024–2026)对TestMesh的调研以及其在欧洲市场和美国市场的应用客户来讲,它的价值对于下面这技术和应用的极高效测试和验证助益非常大:特色工艺/Foundry(eFlash、48nm/55nm NOR、eRRAM/eMRAM)、NOR Flash设计公司(车规、xSPI、宽电压/低电压)、RRAM/MRAM/PCM初创与产业化项目,以及少数具备芯片级阵列/宏单元流片能力的头部高校与国家队研究所。

我们最近的一次针对NVM新型存储device测试的技术交流中给出一个典型对比案例:同一测试流程在传统通用仪器链路上“耗时43小时”,而在TestMesh上“只用3分钟”,并明确称“速度提升了9000倍”

方法与口径说明

本报告以“可核验”为原则:

  • 优先使用组织官网、大学/研究所新闻与成果页、论文出版方页面(Nature/Science/ACS/Springer等)、以及专利数据库(Google Patents)等一手或准一手来源;对媒体/二手转载如无更高质量佐证,则仅作为“融资/新闻”参考。
  • 对每个条目,若某字段无法从公开来源确认,则标注 “未说明”(按用户要求)。
  • “TestMesh优先级”是为“潜在客户拓展”服务的商业评分,依据:
  • 是否存在 器件/阵列/宏单元 的反复循环、可靠性、漂移、扰动、位图与统计需求;
  • 是否具备 流片/试产/量产 或明确的“对外开放平台/服务”;
  • 是否更可能承担“设备采购决策”(如Foundry/IDM、芯片公司、国家队平台)或仅为单课题研究。

TestMesh测试工具要点简介

产品核心要点

TestMesh(NplusT)在产品页中明确将自身定义为:面向新型NVM开发与工程化的 开箱即用All‑in‑one工程测试平台,强调其“突破性架构”带来的三类价值:极高速算法循环(Millions of cycles in a flash)、对cell/array状态与行为更高可视性、提升工程生产力

其实现这些特性的关键硬件/软件要素包括:

  • 高速算法波形发生器(动态阻抗控制、微秒级脉冲选择);
  • 快速电流检测电路(亚微秒级建立时间、几十纳秒采样);
  • 电流量程微秒级切换(兼顾写脉冲与读尺度);
  • 阈值可编程1‑bit ADC(用于判断单元是否达到目标态,模拟sense amplifier);
  • 可编程硬件sequencer(减少软件交互开销);
  • 覆盖 晶圆与封装级测试、GUI(工程/操作员模式)、Python/C++可编程,并可与阵列分析软件集成。

TestMesh还把适用技术直接列为:Flash(含NAND/NOR/3D)、ReRAM、PCM、FeRAM、MRAM、Memristor networks 等,并给出“算法/盲测循环、可编程周期点的IV等表征、拓扑图案生成、扰动操作”等主功能,以及“工艺评估、可靠性评估、设计验证、失效分析、生产监控”等应用场景。

此外,产品页给出按研发阶段优化的配置:

  • TMS‑100(单cell)、TMA‑100(cell与mini‑array,模拟charge pump与sense amp)、TMC‑100(交叉阵列/计算阵列,漂移检测与计算操作仿真)、TMY‑100(IP宏单元与最终产品,协议化管理与在线判决)。

对“为何能极快”的补充信息

我们在和用户交流中有时候更强调“系统架构层”的加速逻辑:

  • 通过 低延迟高速通信(PCIe) 与 硬件侧执行/缓存/判决 思路,把大量原本在通用仪器+软件回环中的交互开销移走;
  • 给出“43小时→3分钟→9000倍”的对比例子,直观说明其面向“百万/千万/更高循环次数”测试的价值(尤其是可靠性与算法循环)。

组织总表(大陆+港澳,约70+条目)

为减少地名重复并便于分区统计,采用城市/区域代码:

  • BJ北京|SH上海|SZ深圳|HZ杭州|NB宁波|WX无锡|WH武汉|ZH珠海|CD成都|XA西安|QD青岛|JN济南|CC长春|SY沈阳|NJ南京|HK香港|MO澳门|HF合肥|未说明:公开资料未能确认到城市级

表内“代表论文/资料”“专利/专利页”“融资/新闻”均有引用链接;缺失则标注“未说明”。

字段F01F02F03F04
实体中芯国际华虹半导体上海华力微电子华润微电子
城市/区域SH/BJSH/WXSHWX/SH
组织类型FoundryFoundryFoundryIDM/Foundry
NVM技术聚焦eFlash/eNVM55nm eFlash MCU、48nm NOR Flash55nm SONOS eFlasheFlash/特色eNVM
阶段量产/平台化规模量产量产量产/平台化
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料55nm嵌入式闪存平台合作发布半年报相关披露55nm SONOS eFlash量产报道eFlash IP方案合作与工艺平台说明
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级

字段F05F06C01C02
实体GTA半导体武汉新芯兆易创新普冉股份
城市/区域SHWHBJSH
组织类型Foundry/IDMIDM/制造成熟公司成熟公司
NVM技术聚焦FeRAMSPI NOR FlashSPI NOR FlashSPI NOR Flash
阶段量产量产量产量产
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料110nm FeRAM量产披露SPI NOR产品页官方Flash产品页SPI NOR产品页
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级

字段C03C04C05C06
实体珠海博雅科技芯天下技术东芯半导体聚辰股份
城市/区域ZH未说明SHSH
组织类型成熟公司成熟公司上市公司上市公司
NVM技术聚焦SPI/Parallel NORNOR/SLC NANDSPI NOR/SLC NANDEEPROM + NOR
阶段量产量产量产量产
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料官方简介About页面官方产品中心NOR Flash产品页
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级中-高中-高

字段C07C08C09C10
实体复旦微电子江波龙士兰微北京芯斯为
城市/区域SHSZHZBJ
组织类型上市公司成熟公司IDMStartup
NVM技术聚焦SPI NOR FlashxSPI NORMCU Flash/OTP/MTP垂直单晶3D NOR
阶段量产量产/迭代量产研发/早期
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料SPI NOR Flash产品页xSPI NOR新品说明官方新闻/产品线3D NOR创业方向报道
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级中-高中-高

字段M01M02M03R01
实体上海矽朋微电子浙江驰拓科技致真存储昕原半导体
城市/区域SHHZBJSH/SZ/HZ
组织类型StartupStartupStartupStartup
NVM技术聚焦MRAMeMRAMSOT-MRAMeReRAM
阶段原型/产业化推进原型/平台服务原型/推进量产产业化/平台化
公开联系未说明sales@hikstor.comtruthmemory@tmc-bj.cnsales@innostar-semi.com
代表论文/资料官方页面官网官网联系方式页销售网络/联系方式页
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级

字段R02R03R04R05
实体新忆科技铭芯启睿显芯科技集创北方
城市/区域BJBJBJBJ
组织类型StartupStartup成熟公司成熟公司
NVM技术聚焦RRAMRRAMeRRAM IPeRRAM
阶段原型/推进研发/早期量产量产
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料官网技术说明Pre-A融资报道28nm eRRAM IP新闻28nm先进显示芯片披露
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明Pre-A未说明未说明
TestMesh优先级中-高

字段E01P01P02A01
实体无锡顺旻智存北京时代全芯芯连鑫(武汉)半导体知存科技
城市/区域WXBJWHBJ/HZ
组织类型Startup/产业化成熟公司StartupStartup/成熟产品
NVM技术聚焦FeRAMPCM3D PCM存内计算
阶段量产产业化研发/启动量产/试量产
公开联系未说明未说明未说明sales@witmem.com
代表论文/资料110nm FeRAM量产披露知识产权页武汉官方签约信息公司介绍与联系方式
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明项目签约产业合作/采样新闻
TestMesh优先级中-高

字段I01I02I03I04
实体中科院微电子所中科院物理所中科院金属所北京微电子技术研究所
城市/区域BJBJSYBJ
组织类型研究所研究所研究所研究所
NVM技术聚焦3D-NOR/RRAMSOT-MRAMHfO₂铁电eRRAM耐久
阶段研究→量产研究研究原型/工程化
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料3D NOR成果SOT-MRAM科研动态HZO超薄铁电论文Nature Electronics亮点
专利/专利页未说明CN200910076048.X未说明未说明
近年融资/新闻量产落地未说明未说明未说明
TestMesh优先级中-高

字段I05I06I07I08
实体浙江实验室甬江实验室ACCESS-AI Center中科院上海技物所
城市/区域HZNBHKSH
组织类型研究机构实验室研究中心研究所
NVM技术聚焦FeFETRRAM/忆阻器自旋器件神经形态器件
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料FeFET论文Nature Comm论文npj SpintronicsTongji-SITP论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级

字段U01U02U03U04
实体清华大学北京大学复旦大学浙江大学
城市/区域BJBJSHHZ
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦RRAM/CIM忆阻器阵列神经形态器件RRAM/HfO₂
阶段研究/样片研究/样片研究/样片研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料忆阻器存算一体成果集成电路学院成果Nano Letters论文Nature Comm论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻成果报道未说明未说明未说明
TestMesh优先级中-高

字段U05U06U07U08
实体华中科技大学西安交通大学西安电子科技大学中国科学技术大学
城市/区域WHXAXAHF
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦RRAM/忆阻器阵列MRAM/自旋轨道FeFET/铁电可靠性HfO₂铁电相
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料HfO₂-x阻变存储论文Spin Hall角论文铁电疲劳机制论文HfO₂铁电相变论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级中-高中-高

字段U09U10U11U12
实体哈尔滨工业大学(深圳)西湖大学南京大学华南师范大学
城市/区域SZHZNJGZ
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦HfO₂铁电超薄HfO₂铁电机理铁电/类脑器件全铁电类脑系统
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料HZO超薄铁电论文HfO₂铁电论文全铁电储备计算论文全铁电储备计算论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中

字段U13U14U15U16
实体华南理工大学深圳大学同济大学山东大学
城市/区域GZSZSHJN
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦光电忆阻/类突触忆阻器视觉系统神经形态器件HfO₂铁电/忆阻器
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料光学突触器件论文仿复眼忆阻器论文Nature Comm论文HfO₂稳定性论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中低-中

字段U17U18U19U20
实体吉林大学天津大学济南大学青岛大学
城市/区域CCTJJNQD
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦光电忆阻忆阻器/光电器件忆阻器/光电器件HfO₂铁电/薄膜
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料光电忆阻论文TJU论文索引UJN论文索引HfO₂相关论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中低-中低-中

字段U21U22U23U24
实体西北工业大学中国科学院大学香港大学香港科技大学
城市/区域XABJHKHK
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦忆阻器/柔性类脑忆阻器/类脑材料新型器件/存内计算自旋类忆阻
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料Nature Comm论文Perovskite论文Nature Comm论文npj Spintronics
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中

字段U25U26U27U28
实体香港理工大学香港城市大学香港中文大学香港中文大学(深圳)
城市/区域HKHKHKSZ
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦Perovskite memristor二阶忆阻器Memristor-ADC自旋类忆阻
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料Nature Comm论文Nature Comm论文Nature Comm论文npj Spintronics
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级

字段U29U30U31U32
实体澳门大学澳门科技大学北京航空航天大学北京理工大学
城市/区域MOMOBJBJ
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦2D材料忆阻器忆阻器研究SOT-MRAM/忆阻器HfO₂铁电
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料Nature Electronics论文活动/论文索引SOT-MRAM论文HZO结晶论文
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中中-高

字段U33U34U35U36
实体安徽大学北京科技大学合肥工业大学南京邮电大学
城市/区域HFBJHFNJ
组织类型大学大学大学大学
NVM技术聚焦铁电相关研究铁电相关研究光电突触/类忆阻器忆阻器相关研究
阶段研究研究研究研究
公开联系未说明未说明未说明未说明
代表论文/资料HfO₂铁电论文HZO结晶论文光电突触论文Nature Comm参考PDF
专利/专利页未说明未说明未说明未说明
近年融资/新闻未说明未说明未说明未说明
TestMesh优先级低-中低-中低-中


注:本表并非“统计学意义的绝对全量”,而是“2016–2026更活跃、且公开信息可核验”的覆盖集合;对未能在公开渠道稳定核实的条目,本报告未强行纳入或标注为“未说明”。

按技术与区域聚类表

按技术方向聚类(以ID引用总表)

技术方向
典型需求形态(与TestMesh匹配点)
覆盖ID(示例,非穷尽)
NOR/eFlash/3D‑NOR
高P/E循环、扰动、读写边界、阵列位图、量产监控;对微秒级流程控制与1‑bit判决极敏感
F01–F06、C01–C10、I01
RRAM/eRRAM/忆阻器(含交叉阵列与CIM)
变异性/漂移/多级态、交叉阵列拓扑与扰动、算法循环与盲测、近阈值工作点评估
R01–R05、A01、I01、I04、U01–U06、U14、U23–U28 等
MRAM(STT/SOT/eMRAM/PMRAM)
写入能耗/速度、耐久(常强调>10^12级)、读写分离结构评估、磁堆栈一致性与写入窗口测试
M01–M03、I02、U06、U31 等
FeRAM/FeFET(HfO₂铁电)
疲劳/唤醒/老化、保持与温度特性、多次循环的可靠性退化路径;需要高频/高通量电学循环与关键周期点表征
F05、E01、I03、U08–U13、U16、U32 等
PCM
多状态写入策略、漂移/保持、耐久与温度窗口;需要快速算法管理与表征结合
P01–P02

按区域聚类(以ID引用总表)

区域板块
特征
主要ID(示例)
北京(含亦庄)
国家队研究所+头部高校+显示/存储公司密集;RRAM IP与3D‑NOR等里程碑集中
I01–I04、C01、C10、M03、R04–R05、U01–U02、U22、U31–U32
长三角(上海/无锡/杭州/宁波)
Foundry与NOR公司聚集;eFlash平台化、eRRAM与eMRAM开放平台明显
F02–F05、C02、C05–C07、M02、R01、I05–I06、U03–U04、U10、U15
珠三角/大湾区(深圳/香港/澳门)
自旋器件/类忆阻研究活跃;港区高校成果密集;深圳为芯片公司与应用牵引点
C08、A01、U23–U30、U14、U09、U28
中部(武汉)
NOR制造与新型PCM项目落地;高校与产业链协同潜力
F06、P02、U05
西部(西安/成都)
MRAM/自旋轨道与器件研究强;部分高校在MRAM/铁电方面活跃
U06–U07、U21、U20(CD相关见论文单位)

Top‑20 目标线索(以ID引用总表)

说明:为避免重复展开组织名称,本表仅列ID与行动理由;对应名称与信息请回查“组织总表”。

优先目标ID
目标类型
核心要点
TestMesh可以提供的价值
I01
国家队研究所
同时覆盖3D‑NOR、eRRAM IP量产、RRAM‑CIM芯片论文链路,具备“示范效应+产业外溢”
“阵列级位图+算法循环+生产监控一体化”
F02
Foundry
55nm eFlash MCU与48nm NOR规模量产平台,可靠性/量产监控需求重
“从研发验证到生产监控的同一平台链路”
F01
Foundry
eFlash/eNVM平台化合作多,客户多样,具备规模化复制机会
“在不改现有ATE体系下补齐工程测试短板”
F03
Foundry
55nm SONOS eFlash平台量产导入,宏单元测试需求明确
“微秒级流程配置+硬件判决提升吞吐”
F06
NOR制造
NOR量产与可靠性/筛选刚需
“P/E‑disturb‑bitmapping快速闭环”
C01
NOR龙头
车规与功能安全口径,测试矩阵更复杂
“车规可靠性:循环加速+关键点表征自动化”
C02
NOR公司
产品线丰富+KGD服务,TestMesh可做工程与客户验证工具
“KGD/工程筛选:更快找到失效模式”
C03
NOR公司
多工艺路线(ETOX/SONOS)+量产,适配对比验证
“工艺对比与节点迁移的高效率验证”
R01
eReRAM公司
对接客户/平台导入,“测试与表征服务”是商业化核心一环
“面向客户的可复现benchmark与脚本库”
R02
RRAM公司
官网明确RRAM与SoC/存算产品方向,适配交叉阵列与算法循环
“阵列一致性/漂移/多级态测量自动化”
R04
显示芯片公司
eRRAM量产应用侧,位图/筛选/监控需求强
“量产良率提升:位图与漂移快速定位”
M02
eMRAM平台
官网明确开放服务+联系方式清晰,成交路径短
“联合打造eMRAM开放测试平台样板间”
M03
SOT‑MRAM公司
SOT‑MRAM强调耐久与制造化,适配TestMesh硬件判决与高速循环
“SOT‑MTJ阵列:高速写入‑读出窗口扫描”
P02
PCM项目
项目刚启动,最需要“快速验证/建立测试基线”
“从0到1搭建PCM测试流程/可靠性基线”
P01
PCM公司
专利资产与产业化诉求显著,可靠性/漂移问题关键
“多状态写入策略+漂移追踪的自动化方案”
C10
3D‑NOR创业公司
方向与TestMesh“面向NOR改进与快速验证”高度同频
“3D‑NOR阵列快速Bring‑up与算法循环工具链”
U01
头部高校
芯片级忆阻器CIM与系统成果多,可做标杆案例与生态牵引
“作为‘高校‑产业’示范实验室共同发布案例”
U02
头部高校
忆阻器阵列与系统成果与对外影响力强
“感存算阵列‑快速位图‑算法循环闭环演示”
U31
自旋电子强校
SOT‑MRAM与自旋器件研究突出,具备产学结合潜力
“MRAM写入窗口/耐久:硬件判决与高速脉冲”
U24/I07
港区节点
可作为港区切入与国际展示窗口(论文单位链)
“港区联合示范/Workshop切入”

生态关系图与里程碑时间线

    图中仅使用ID(对应“组织总表”),便于与表格交叉检索。

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